產品介紹
該系統為通用離子束刻蝕(Ion Milling)系統。除了通過掩模在襯底表面刻蝕三維結構圖形外，還可完成離子束清洗材料表面、材料表面終極拋光和材料致薄，並可實現化學輔助離子束刻蝕(CAIBE)。LKJ系列離子束刻系統適用刻蝕各忡材料，包括金屬、合金、半導體(Si、SOS、GaAs及Ⅲ–V)、金屬氧化物、非金屬氧化物、氮化物、碳化物、陶瓷、紅外(HgCdTe、InSb 和 InP等 )和超導(YBa2Cu3O7 Nb NbN )等材料。廣泛應用於衛星、導彈、核聚變、雷達、半導體、X射線近代光學、通信、多種傳感和超導等技術領域，製造各種聲、光、電、磁、傳感和集成器件。